Hafnium oxide on silicon: A non-destructive characterization of the interfacial layer

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Metadaten
Author: Dirk Wolfframm, Simona Kouteva-Arguirova, Tzanimir V. ArguirovGND, Reiner P. Schmid, K. Dittmar, I. Zienert, Jürgen ReifGND
URL:http://www.scientific.net/SSP.95-96.653.pdf
ISSN:1662-9779
ISSN:0377-6883
Title of the source (English):Solid State Phenomena
Document Type:Scientific journal article peer-reviewed
Language:English
Year of publication:2004
Volume/Year:95-96
First Page:653
Last Page:658
Faculty/Chair:Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Experimentalphysik und funktionale Materialien
Fakultät 2 Umwelt und Naturwissenschaften / AG Physikalische Chemie II
Institution name at the time of publication:Fakultät für Mathematik, Naturwissenschaften und Informatik (eBTU) / LS Leichtbau-Keramik
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