Tailoring the strain in Si nano-structures for defect-free epitaxial Ge overgrowth

Export metadata

Additional Services

Search Google Scholar
Metadaten
Author: Peter Zaumseil, Yuji Yamamoto, M. Schubert, Giovanni CapelliniORCiD, Oliver Skibitzki, Marvin H. Zöllner, Thomas Schroeder
DOI:https://doi.org/10.1088/0957-4484/26/35/355707
ISSN:1361-6528
Title of the source (English):Nanotechnology
Document Type:Scientific journal article peer-reviewed
Language:English
Year of publication:2015
Volume/Year:26
Issue number:35
First Page:355707
Faculty/Chair:Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Halbleitermaterialien
Einverstanden ✔
Diese Webseite verwendet technisch erforderliche Session-Cookies. Durch die weitere Nutzung der Webseite stimmen Sie diesem zu. Unsere Datenschutzerklärung finden Sie hier.