Post deposition annealing of epitaxial Ce1−xPrxO2−δ films grown on Si(111)

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Author: Henrik Wilkens, Wanja Spieß, Marvin H. Zöllner, Gang Niu, Thomas Schroeder, Joachim Wollschläger
DOI:https://doi.org/10.1039/C6CP01553K
ISSN:1463-9084
ISSN:1463-9076
Title of the source (English):Physical Chemistry Chemical Physics
Document Type:Scientific journal article peer-reviewed
Language:English
Year of publication:2015
Volume/Year:17
First Page:9991
Last Page:9996
Faculty/Chair:Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Halbleitermaterialien
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