Atomic layer deposition of thin oxide films for resistive switching

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Metadaten
Author: K. Froehlich, P. Jančovič, B. Hudek, J. Dérer, A. Paskaleva, Thomas Bertaud, Thomas Schroeder
DOI:https://doi.org/10.1149/05810.0163ecst
ISSN:1938-6737
Title of the source (English):Electrochemical Society (ECS) Transactions
Document Type:Scientific journal article peer-reviewed
Language:English
Year of publication:2013
Volume/Year:58
Issue number:10
First Page:163
Last Page:170
Faculty/Chair:Fakultät 1 MINT - Mathematik, Informatik, Physik, Elektro- und Informationstechnik / FG Halbleitermaterialien
Institution name at the time of publication:Fakultät für Mathematik, Naturwissenschaften und Informatik (eBTU) / LS Halbleitermaterialien
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